CRESSINGTON propose une gamme complète de métalliseurs et évaporateurs carbone performants et fiables pour le MEB et le MET.
Appareils de dépôt en vide primaire pour le MEB.
108 Auto : métalliseur à pulvérisation cathodique
- Cible (Ø : 57mm) à changement rapide.
- Chambre cylindrique en verre (Ø : 120 mm, h : 120 mm ou
Ø : 150 mm, h : 150 mm).
- Microfuite d'argon à réglage indépendant.
- Moniteur ou contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
108 Carbon : évaporateur carbone automatique
- Crayons de carbone à taille cylindrique pour un dépôt homogène.
- Chambre cylindrique en verre (Ø : 120 mm, h : 120 mm ou Ø : 150 mm, h : 150 mm).
- Moniteur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
Appareils de dépôt en vide secondaire pour la haute résolution dédiés aux MEB-FEG & MET.
208 HR : métalliseur à pulvérisation cathodique
- Cible (Ø : 57 mm) à changement rapide.
- Turbo drag pump pour une meilleure pureté du plasma.
- Chambre cylindrique en verre (Ø : 150 mm, h : 150 mm).
- Microfuite d'argon à réglage indépendant.
- Plateforme rotative inclinable à mouvement planétaire pour un dépôt fin et régulier sur le relief de l'échantillon.
- Moniteur ou contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
208 Carbon : évaporateur carbone
- Crayons de carbone à taille cylindrique pour un dépôt homogène.
- Pompe turbomoléculaire pour optimiser la qualité du dépôt.
- Chambre cylindrique en verre (Ø : 150 mm, h : 150 mm).
- Contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz.
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
- Accessoires pour évaporation de métaux et effluvage des grilles MET.
Stations d'évaporation en vide cryogénique pour une qualité de dépôt ultime, dédiés à l'EBSD et aux utilisateurs
MEB-FEG & MET exigeants travaillant en très haute
résolution.
328 UHR : métalliseur haute performance à pulvérisation cathodique
- Pompe turbomoléculaire épaulée d'une pompe cryogénique pour un vide très propre (vide d'environ 6 x 10-8 mbar).
- Chambre cylindrique en acier (Ø : 200 mm, h : 230 mm).
- Sas d'introduction des échantillons pour un pompage très court.
- Microfuite d'argon à réglage indépendant.
- Plateforme rotative inclinable à mouvement planétaire pour un dépôt fin et régulier sur le relief de l'échantillon.
- Courant ajustable jusqu'à 80 mA permettant l'évaporation de nombreux métaux.
- Plusieurs cibles dont Cr, Ti, Ni ou Ir sont fournis en standard.
- Moniteur ou contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
328 EB : évaporateur carbone haute performance équipé d'un canon à électrons
- Pompe turbomoléculaire épaulée d'une pompe cryogénique pour un vide très propre (vide d'environ 6 x 10-8 mbar).
- Chambre cylindrique en verre (Ø : 200 mm, h : 230 mm).
- Sas d'introduction des échantillons pour un pompage très court.
- Plateforme rotative inclinable à mouvement planétaire pour un dépôt fin et régulier sur le relief de l'échantillon.
- Contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Dépôt de carbone ultra fin et sans structure compatible avec les analyses EBSD, les observations au MEB-FEG & MET en très haute résolution.
- En changeant la tête du canon à électrons par une pointe Pt/C, le CRESSINGTON 328 EB peut-être utilisé pour effectuer du LARS
(Low Angle Rotary Shadowing), et recouvrir des macromolecules biologiques (ex. : ADN, polysaccharides, etc..)
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
Station d'évaporation pour le laboratoire.
Les appareils CRESSINGTON de la série 308 sont conçus autour d'une station d'évaporation multisources pour le laboratoire, destinée à la recherche
et aux application Haute Technologie.
- Station de pompage avec pompe turbomoléculaire haute capacité.
- Pompage cryogénique supplémentaire pour un vide très propre
(vide d'environ 6 x 10-8 mbar)..
- Gestion automatisée de la pompe turbomoléculaire et des arrivées de gaz.
- Grande chambre en acier (Ø : 305 mm, h : 358 mm) et embase multiports.
- Sources de dépôt multiples : sputtering, thermique, canon à électrons.
- Différentes platines : rotative, inclinable et planétaire.
- Moniteur ou contrôleur d'épaisseur à microbalance à quartz (option).
- Séquence de dépôt entièrement automatique.
- Système évolutif.
